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真空系統中漏氣流量的平衡表示式如下：
式中 p-系統達到的壓力;
Po-真空泵的極限壓力;
S-系統的有效抽速;
Qo-由系統外部流向系統內部的總漏率;
EQi——虛漏所形成的總“漏”率。
所謂虛漏，其來源是多方面的，如真空系統結構材料表面的出氣，試驗物或工件的出氣，系統內各種材料的蒸氣，氣體通過器壁向系統內的滲透以及系統的死空間中氣體的流出等。
檢漏中應注意區分Qo與EQi。相對虛漏EQi而言，漏氣Qo也可稱為實漏。雅之雷德機電科技：在不特別加以說明時，所說的漏氣都是指實漏。
對于與真空泵隔離開的密封容器或器件(如電子管、半導體器件等)來說，S=O，這時若Po<p，則上式變成
式中 t-封離后所經歷的時間;
V-密封容器的總體積;
Pt-經歷時間￡后系統(或容器)中的壓力;
p，Qo，Qi與上式相同。
真空系統最小可檢分壓力：
最小可檢分壓力反映質譜計探頭的分壓力靈敏度和測量儀器檢測離子流信號的綜合指標。對于規定的氣體的最小可檢分壓力是檢測一個等于兩倍噪聲的離子流輸出信號(即信噪比為2)。
真空系統最大工作壓力：
質譜計在不同應用條件下允許工作的最大全壓力極限。一般這項指標是對質量數28的氮峰測定的。在定性分析中，最大工作壓力通常定義為，在該壓力下儀器的分壓靈敏度下降到線性值的一半，或定義為J十-p曲線中最大J+值對應的p值。
某些儀器給出的指標是儀器能指示的最大工作壓力。在該壓力下，分析器仍具有一定的質量分離功能，離子源有一定的離子產額，燈絲仍可正常工作。
在進行定量測量時，儀器的最大工作壓力表征為，在該壓力范圍內各種離子的離子流與壓力的關系均呈線性。
真空系統最小可檢濃度：
表征儀器對氣體混合物中所能測量的某一組分的最小值。通常用P最小/P全表示，這里，P最小為氣體混合物中某一組分的最小分壓力，P全為氣體混合物的全壓力。
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